正向電壓降小,無存儲電荷
適合:低壓高頻整流
一般采用金屬—半導體接觸來形成肖特基勢壘,但是由于金屬與半導體接觸時,接觸界面之間SiO2層的存在,使得接觸電阻和表面態密度明顯增大,致使器件的性能大大降低
我們采用了擴散勢壘和多層金屬化技術,為了提高反向性能,采用了保護環結構等新工藝技術
? 為減小封裝串聯電阻,降低正向壓降,盡量加大了引線與芯片的接觸面積
? 軸向引線,殼體透明,體積小、重量輕、可靠性高
? 符合GB7581《半導體分立器件外形尺寸》的標準要求
達到最佳勢壘金屬厚度和形成最佳表面,使管芯獲得最好的電參數性能及較高的成品率
封裝前對芯片進行100%的鏡檢,剔除有缺陷的芯片
適用廣泛
品質保障
精益求精
供您挑選
道工藝流程
1.投片打標
2.清洗氧化
3.OAP以及勻膠
4.光刻曝光,顯影,后拱
5.堅膜,腐蝕
6.堅膜,注入
7.去膠
8.B推結,氧化形成P+隔離
9.光刻,刻引線孔
10.清洗P-注入前氧化
11.P-注入提高電壓
降低漏電流
12.漂酸去掉引線孔氧化層
13.清洗蒸CR
14.合金形成合金勢壘
15.扒CR
16.清洗蒸發,蒸發鋁
17.反刻鋁
18.背面減薄
19.清洗漂酸背面金屬化
20.成型測試
? 高溫下檢查反向漏電特性,并對樣品進行破壞性物理實驗
? 硬擊穿特性曲線,常溫漏電流極小,為0.2—0.3mA
? 200mA擊穿電流下,特性曲線穩定,不出現漏電流變大,
曲線變軟以及蠕變溝道、鼓泡、穿通等失效模式
降低
穩定
小
時間短
浪涌電流
? 印刷精美,包裝嚴實
? 紙板厚實,更好地保護產品
? ASEMI標志,品質保障
肖特基二極管廣泛應用于開關電源、變頻器、驅動器等電路,作高頻、低壓、大電流整流二極管、續流二極管、保護二極管使用,或在微波通信等電路中作整流二極管、小信號檢波二極管使用。歡迎咨詢 取樣測試。